陈令修

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Plasma-induced defects as nucleation sites for graphene on hexagonal boron nitride

  • 发布时间：2025-10-24
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  • DOI码：https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.161169
  • 所属单位：材料与物理学院
  • 项目来源：自选课题
  • 第一作者：陈令修
  • 合写作者：孙清旭,孙宏宇,邬俊源,姜程鑫,张洋,石礼伟,王浩敏
  • 论文类型：期刊论文
  • 卷号：Volume 679
  • ISSN号：0169-4332
  • 是否译文：否
  • 发表时间：2025-01-15

版权所有：中国矿业大学