李玉鹏

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基于数字模拟的PECVD沉积氮化硅薄膜的 工艺参数决策方法研究

发布时间:2021-03-12 点击次数:

DOI码:10.13922/j.cnki.cjovst.2015.03.06
发表刊物:真空科学与技术学报
第一作者:吴晓松
合写作者:褚学宁,李玉鹏,
论文类型:期刊论文
文献类型:J
卷号:35
期号:3
页面范围:1-10
是否译文:
发表时间:2015-03-12