一种基于乙烯还原剂的低温SCR脱硝工艺

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学校署名:第一单位

发明设计人:吴鑫,杨丽,程杰,宋晨,张曦

专利类型:国内

专利状态:专利授权

申请号:201911219355.9

是否职务专利:

申请日期:2019-12-03

公开日期:2021-03-16

授权日期:2021-03-16

第一作者:刘方